2017年11月11日至24日，第四届武汉设计双年展在全市范围内举行，是武汉首次作为联合国教科文组织“设计之都”举办的展会。以“设计明天”为主题，本届双年展设置30个展览、26项活动、7大展区，旨在展示各种设计门类的交融碰撞，以及创意设计与城市文化、经济、社会、生活、环境的紧密互动，为城市生活注入新活力，培育新生力量。设计展将设计与城市的相互交融，通过运用虚拟现实技术（VR）、多媒体艺术、动漫游戏、服装展览、图纸、模型、影像、绘画等多种方式展现，是武汉设计双年展的核心，属于首次实现多种设计门类的集中展示，工程设计、历史建筑、工业设计、动漫设计、服装设计、摄影作品、美术家作品、大学生设计作品、青少年儿童设计作品等多个门类联袂展出。展览场馆方面，本届双年展采用创新的“2+N”模式，在主场馆设置上，分别设在南太子湖创新谷美术馆和昙华林展区。此外，青岛路平和打包厂、中南建筑设计院科研设计中心大楼等地作为分展场，还联手打造了一个多元的、开放的展览网络。首次利用“武汉设计之都”自媒体矩阵宣传双年展活动，通过多种自媒体平台多角度讲述武汉设计故事，与广大市民展开深入互动，分享设计理念。